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中国EUV光刻光源技术获突破美欧每一次“卡脖子”都是突破机会

2025-05-31  

  一、美欧禁止向中国芯片企业出售售最先进的EUV光刻机已达六年,导致中国企业无法生产5纳米及以下制程芯片

  众所周知,由于美国对华实施出口管制和相关规定,荷兰ASML等公司自2019年以来被禁止向中国出售其最先进EUV光刻型号,导致包括中芯国际等中国芯片企业,无法自主生产5纳米、3纳米等先进芯片,导致中国华为等企业在竞争对手的手机已经在使用5纳米、3纳米制程的CPU芯片时,只能使用14纳米制程芯片。

  二、在禁止向中国芯片企业出售最先进EUV光刻机六年后的今天,中国在EUV光源层面取得重大突破

  2025年4月29日,包括据环球时报旗、观察者网等媒体都报道说,中科院上海光机所某研究员团队,绕过二氧化碳激光(美欧专利技术)、使用固体激光器技术,成功开发出LPP-EUV光源,并达到了国际领先水平,对中国自主开展EUV光刻有重要意义。此项中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术的突破,将破除中国自主制造芯片的重大阻碍,将使中国固体光源被美国“卡脖子”的局面得到扭转。尤其是光源技术的进展,正在对全球半导体产业链、地缘政治格局及技术创新路径产生系统性影响。

  1、打破ASML垄断:中国技术突破直接冲击ASML在EUV光刻机市场超90%的份额。国产方案的电光转换效率是传统技术的4倍,设备调试时间缩短为ASML的1/5,制造成本预计降低60%,可能加速芯片价格“平民化”。

  2、产业链区域化趋势:中国已建立涵盖光源、掩模检测、曝光验证的EUV实验平台,叠加每年500万理工科毕业生的“人才红利”,正在形成从研发到量产的闭环能力。

  三、偶尔都有EUV光刻机关键技术获得突破的消息,但中国自主研发制造的5纳米及以下先进制程芯片,距我们还有多远?

  经常看到网上消息关于光刻机突破,不知所然,应该有权威机构或权威媒体发布为准!

  我深信,每一次欧美对我们的封锁,都是中国突破卡脖子技术嗯契机,而且会比西方的更先进,因为中国人是最聪明的。

  听到我国在EUV光刻机制造关键技术上获得重大突破,确实非常激动且让人泪目。EUV光刻机,我们被卡脖子实在太久太憋屈了!但是技不如人只能忍辱负重并奋发图强。

  上海光机所、长春光机所、哈工大、上海微电子等科研院所、高校、高科技企业先后突破国产EUV光刻机紫外线光源并申请技术专利,可喜可贺。关键技术一点一点突破,等到全部整合,我们的光刻机自然就成功了!希望国人给科学家加油,给祖国加油!

  之前没有任何一个国家,可以独立完成EUV光刻机的制造!但是,如今咱们中国的科研团队,可以摘取到这颗工业制造的皇冠,对于取得光刻机技术突破的专家进行奖励是应该的!是必须的!

  几十年前,那个时候我们国家不了解国外的玩法,专利布局这些我们都不懂。那时,除了武器等核心技术之外,认为民用方面只要有钱就可以买到,无非就是花钱多少的问题,根本就没有想到会有卡脖子的事情,再加上当时想要快速发展,自己研究根本来不及,所以买国外的就是最快的。直到2019年华为被制裁之后,我们才明白,所谓国际分工协作、国际贸易规则,全部啥都不是,只有自己的科技和实力才是真的,即使有钱买别人的用,不一定能够买到。

  国人们,要坚定信心,买电子产品,坚决支持国货。只有这样,中国的芯片技术才能不断迭代升级,才能不断创新。

  加油啊!这只是一个点的突破,离光刻机整体突破还差的远着呢!更别说后面还是一整条生产线的突破

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