光刻机：自主可控最核心环节产业迎来黄金加速期

　　光刻机是晶圆制造最核心且技术难度最高的设备，2024年全球市场由ASML（61.2%份额）、尼康、佳能寡头垄断，ASML更是EUV光刻机唯一供应商，中国作为其最大客户2024年收入占比达41%，但海外制裁下国产替代势在必行。光学系统是光刻机核心，由15 - 20个透镜组成的物镜系统等部件精度要求极高，全球35亿美元光学市场中蔡司占比超60%，国产如茂莱光学虽实现i-line光刻机光学器件突破，但面形精度（PV30nm）、表面光洁度（20/10）等与蔡司（PV0.12nm、原子层面）差距显著。光源波长决定工艺能力，从汞灯到EUV波长不断缩短，双工台系统通过协同工作提升产能，ASML双工台运动精度达纳米级。国内以上海微为代表的企业在低端制程实现突破，2024年工信部将KrF及ArF光刻机列入首台套目录，茂莱光学、汇成真空等企业在光学元件、真空镀膜设备等领域努力攻坚，国产光刻机在DUV领域已取得明确进展，产业迎来黄金加速期。pg电子官方