如果在光刻工艺制程的确立过程中感到困扰，或是进入量产后品质稳定性上出现问题，JSR都会为您解决。
我们为客户提供从成熟到先进的技术支持。我们利用旋涂材料，在微缩以及3D堆叠技术方面、为客户改善产量、减少拥有成本做出贡献。
基于全球业绩记录，我们将会为中国客户提供优质服务。我们通过以往ARF的丰富经验，提高您生产过程中的产量和良率。
为客户提供先进技术支持。通过活用先进的模拟技术，高度还原客户工艺流程，大大缩短客户验证周期。
我们向客户提供包含I-line、KRF、ARF、多层材料用等完整产品线。
我们为客户提供面向先进光刻工艺的光刻胶周边材料，比如：浸润式防水涂层、SOH、SOC等。
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我们将根据在半导体市场多年的经验和全球销售业绩，为中国客户提供优质的支持。
我们通过开发高接触角的表面涂层（Topcoat），来提高客户的产量，并减少缺陷数量，从而为提高产量做出贡献。
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通过自有的新设备和研究设施再现客户的半导体工艺，向客户及时推荐相应的材料以及工艺条件。
利用先进的模拟技术为客户的先进工艺做出贡献，并提出解决方案。以提高客户先进工艺建设的效率（Total around time）为目标，提供服务与支持。
JSR自1979年4月开始销售光刻胶以来，以满足半导体行业的需求为宗旨，40多年来不断的向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料。
JSR在致力于解决全球客户问题的同时，半导体材料的销售额也随之稳步增长。
我们将继续以在日本开发的技术为基础，应对各种半导体工艺上的课题挑战，为半导体市场的增长做出重大贡献。
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