『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。

光刻设备上市公司概念龙头股名单快收藏!(名单)(2025331)

2025-04-01  
上一篇:这家成立不到4年的公司造出了国产28纳米光刻机?
上一篇:光刻胶国产替代仍在进行时 概念股盘点(附股)

猜你喜欢

  • 浙江赛晶电子取得多重光刻专利推动芯片制造新技术发展

    浙江赛晶电子取得多重光刻专利推动芯片制造新技术发展

      PG平台 PG电子官网PG平台 PG电子官网2025年1月10日消息,国家知识产权局发布的公告显示,浙江赛晶电子有限公司成功获得一项名为 一种应用于多重光刻的光刻机自动抓取光刻版 的专利(授权公告号:CN222299941U,申请日期:2024年5月)。该专利的面世,无疑将进一步推动芯片制造领域中光刻技术的革新,帮...
  • 业内:光刻技术走下“神坛” High-NA EUV面临滞销

    业内:光刻技术走下“神坛” High-NA EUV面临滞销

  • 相关阅读

    相关阅读

      中国科学院的科研团队近日在《国际光电工程学会》期刊公布了全固态深紫外(DUV)激光光源研究成果。这项技术通过创新性的固态激光方案,成功输出193nm波长的相干光,理论上可支撑半导体制造工艺延伸至3nm节点,为我国光刻技术自主化开辟了新路径。  值得注意的是,当前全球光刻巨头ASML、尼康、佳能使用的DUV光刻系统,...
  • 2纳米时代将迎来谁的王者?台积电与三星的制程大战

    2纳米时代将迎来谁的王者?台积电与三星的制程大战

      随着生成式AI浪潮的兴起,全球对半导体先进制造技术的渴求越发强烈。而2纳米制程的商用时间节点锁定在2025年,让这个话题的热度再度升温。在最近举行的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上,全球晶圆代工巨头台积电公布了其创新的2纳米(N2)制程技术,展现出惊人的技术优势:相比上代N3制程,性能提升15%,晶体管密度提...
微信

手机扫一扫添加微信